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특허/인증

포토플라즈마로 인한 발생물질 표현(특허관련)
특허날짜
특허기관
포토플라즈마에 의한 반응물질을 표현한 것은 타기술과 구별하기 위함.
타기술이 그림의 표현과 중첩되는 경우 특허권 침해로 간주할수 있음.
특히, 자외광 파장대별로 발생하는 산소계이온, 프리라디컬 출현에 대한 권리를 가짐.